超分辨光刻設備
近幾年來中國的發展，我們有目共睹，雖然我們起步較晚，但我們同西方的距離卻在一點一點的被拉近。在前不久的珠海航展上，殲-10B推力矢量驗證機以多個經典過失速動作向世界宣告，困擾著我國先進戰機發展的“心臟病”問題，將不復存在。隨後在近日，另一個“心臟病”方面也傳出了好消息。
據媒體11月29日的報道稱，中國科學院光電技術研究所再立新功，研製出世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備，在當日通過驗收。也就是說，我國擁有了屬於自己的先進光刻機了。根據介紹，這款光刻機的光刻分辨力達到了22納米，然後結合多重曝光技術，未來可以用於10納米級的芯片製造中。
中科院光電所科研人員
一直以來，生產芯片的光刻機就是我國在半導體設備製造上的最大短板，此次中科院光電技術研究所可以說是取得了關鍵性的突破。而更重要的是，此次我們建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發新路線，繞過了國外相關知識產權壁壘，走出了我們自己的路。
此前我們在研製光刻機時，就深受國外相關知識產權的鉗制，讓我們只能受制於人，仰人鼻息。但現在我們有了自己的路之後，中國芯片製造的未來將是一片光明的。對此有網友感嘆道，“技術難度倒是其次的，繞過專利壁壘這個真的是太難了。所以現在荷蘭才屁顛屁顛的跑到中國來，將此前一直肯出售的光刻機賣給了中國。”
西方的先進技術、裝備一直以來都對中國實行著禁運，以期望中國的崛起得到阻止，但中國人總是在困境中闖出一條自己的路。可隨後西方就解除禁運，利用先發優勢讓我們“無路可走”。
作為集成電路製造業當中的核心角色，光刻機的先進程度就決定了其能製造芯片的先進程度。目前全球只有極少數國家能生產先進的光刻機，而這方面荷蘭的ASML（阿斯麥）公司就是領域內的佼佼者，畢竟只有ASML的光刻機能做到7納米的加工極限。
超分辨光刻設備
不久前，ASML公司就開放對中國的訂單，國內行業巨頭就已經與ASML展開7納米工藝製程的EUV訂單洽談，現在中國繞過了產權壁壘，走出自己的路，相信洽談一定會相當順利。因此也有人稱“每次我們只用取得什麼新的技術突破，不論中國的技術是不是頂尖，中國都有了擁有頂尖技術的機會。”
遠的不說，至少在我國擁有了世界首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備後，我國的雷達芯片的製造工藝將上升一個水平。畢竟精度高了芯片就會變小，小了重量就會變輕，這也就讓以後我國的雷達將變的更輕，戰機也能得有更大的載荷，未來中國也將變得更強。（智忠）
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