'「半導體先聲」阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？客戶入股+戰略併購+開放創新「安信諸海濱團隊」'
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
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客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
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聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
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全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
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客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
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客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
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專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
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客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
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客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
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專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
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客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
重點行業
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
重點行業
科 “新”時代，優創先機
醫藥
申報科創板的醫藥公司超過25家，醫療器械公司領風騷——遠觀海外，近看A股，從估值、成長、科創屬性多角度“淘金”。
TMT
科創板即將上線，部分三板優質TMT公司或可迎來轉板機遇！TMT產業鏈佔據科創板半壁江山，我們獨創新股打分機制，梳理硬科技“真核”，估值+成長雙維度挑選真金！
教育
K12板塊依舊是重點，職業教育板塊值得關注，持續關注政策影響，深度研究超一線城市幼升小、小升初、高考升學路徑，挖掘背後的投資機遇！
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
重點行業
科 “新”時代，優創先機
醫藥
申報科創板的醫藥公司超過25家，醫療器械公司領風騷——遠觀海外，近看A股，從估值、成長、科創屬性多角度“淘金”。
TMT
科創板即將上線，部分三板優質TMT公司或可迎來轉板機遇！TMT產業鏈佔據科創板半壁江山，我們獨創新股打分機制，梳理硬科技“真核”，估值+成長雙維度挑選真金！
教育
K12板塊依舊是重點，職業教育板塊值得關注，持續關注政策影響，深度研究超一線城市幼升小、小升初、高考升學路徑，挖掘背後的投資機遇！
專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
重點行業
科 “新”時代，優創先機
醫藥
申報科創板的醫藥公司超過25家，醫療器械公司領風騷——遠觀海外，近看A股，從估值、成長、科創屬性多角度“淘金”。
TMT
科創板即將上線，部分三板優質TMT公司或可迎來轉板機遇！TMT產業鏈佔據科創板半壁江山，我們獨創新股打分機制，梳理硬科技“真核”，估值+成長雙維度挑選真金！
教育
K12板塊依舊是重點，職業教育板塊值得關注，持續關注政策影響，深度研究超一線城市幼升小、小升初、高考升學路徑，挖掘背後的投資機遇！
【首席 · 諸海濱】
安信證券研究中心 •總經理助理
三板科創研究負責人
"專注、專業、深度、原創
聚焦科創板&新三板市場策略研究，挖掘“科新”市場潛力公司，致力於提供最具洞見的原創觀點
本文系安信諸海濱科·新團隊原創
全篇共20000餘字，閱讀時長約15分鐘
註明來源，歡迎轉載
客戶入股+戰略併購+開放創新，阿斯麥如何成就光刻機領域霸主地位？
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從阿斯麥（ASML）看中國光刻領域該如何突圍？
光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高；光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以光刻機佔據著極為重要地位。全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
ASML處於半導體產業鏈中的曝光環節，是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商。公司成立於1984年，以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺浸沒式TWINSCAN XT、NXT系列、EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市。ASML的研發投入數額巨大，2018年ASML的研發費高達17.46億美元，ASML在全球主要設備和芯片製造國擁有約12000項專利和專利申請，新專利申請大約有300項。2018年ASML的光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，同比增長22.1%，實現淨利潤31.94億美元，同比增長36.21%，毛利率達46%，淨利率達24.7%。
探清運作模式，技術壁壘如何造就市場護城河？
ASML堅持“開放式創新”理念，打通上下游供應鏈，建立發放研究網絡，大大加快了創新速度，快速形成技術壁壘。1）在客戶方面，ASML引入三大客戶--英特爾、三星、臺積電入股，打造利益共同體，共享研發風險與回報。2）在供應商方面，ASML通過戰略併購與入股，快速打通上游供應鏈，快速攫取了光源、鏡頭等光刻機零件領先的技術，佔據技術高地。3）在外部技術合作夥伴、研究機構、學院方面，ASML主導打造了囊括外部技術合作夥伴、研究機構、高等院校的巨大開放式研究網絡，共同研發與改進。通過打通供應鏈，建立開放式研究網絡，ASML推出EUV系列光刻機，成為EUV領域的獨家壟斷者。
細看產品信息，論ASML如何成就近70%的市佔率?
ASML致力於為客戶提供整體光刻解決方案，主要有光刻機系統、應用組合兩大產品，以光刻機系統為核心。ASML提供的光刻機有三大類，分別是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻機。三大類代表的是光刻機技術的不斷提高，從PAS 5500 到DUV再到EUV，最高可實現的製成節點從90nm到10nm到5nm。三類產品價格上也是不斷提高，PAS5500是最具價格優勢的系列，而 EUV光刻機的價格昂貴，單價到達1.2億美元。除了光刻機系統，ASML還提供計量和檢測系統、計算光刻和軟件解決方案等應用組合。ASML通過豐富的產品類別和一流的技術水平佔據了全球近七成的市場。
深剖財務數據，看公司業績如何發展變化？
1）銷售淨收入總體呈增長趨勢，第一階段：1993-2003年，緩慢增長期；第二階段：2003-2007年，兩倍增長期，五年內實現了將近兩倍的增長；第三階段：2007-2009年，經歷兩年下滑後的2009年淨銷售收入幾乎回到了2003年的20億水平；第四階段：跨越性兩連增，2009-2011，ASML的淨銷售收入跨入60-80億美元階段；第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內淨銷售收入基本維持在80億美元左右；第六階段：2016-2018，百億新階段，2017年淨銷售收入首次突破百億美元。到2018年ASML實現年淨銷售收入129.26億美元，1993-2018年複合增速達19%。2018年實現淨利潤31.94億美元，1993-2018年複合增速達24%。2）毛利率、淨利率小幅上漲：從1993年到2018年毛利率、淨利率分別由25.8%上漲到46%、8.5%上漲到24.7%。
聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續保持強勁？
1）競爭格局：全球光刻機領域，主要有ASML、尼康、佳能這三個主要生產商， ASML無論是產品、技術，還是市場佔有率都是穩居第一。在超高端的EUV光刻領域，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機設備的廠家，掌握了獨家壟斷權，市場佔有率達100%。2）市場規模：未來10年，在大數據、物聯網、自動駕駛、人工智能、5G等主要創新驅動下，芯片製造商的業績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規模有望持續增長。ASML預計2020年公司光刻機中端市場淨銷售收入將達144億美元，2025年光刻機低端市場淨銷售收入將到達166億美元，高端市場淨銷售收入有望達266億美元。3）行業趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、製程節點不斷提高。
反觀國內現狀：在光刻機領域中國如何實現技術突圍？
在 IC 前道光刻設備方面，上海微電子裝備股份有限公司代表了國內頂尖水平，其產品最高可實現 90nm 製程，ASML可達到5nm，上海微電子與國際先進水平仍有較大差距。光刻工序塗膠顯影設備上，國內技術領先的是瀋陽芯源微電子設備股份有限公司（擬登陸科創板），在LED芯片製造及集成電路製造後道先進封裝等環節已成功實現進口替代。從ASML的成長曆史來看，中國的光刻機企業可以借鑑：1）光刻機零件採取外包模式，專注於光刻機核心技術研發；2）打造上下游利益鏈，形成穩定利益共同體；3）建立開放研究網絡，合理共享研發成果。
風險提示
半導體行業進入下行週期風險；公司業績下滑
01
寫在前面：半導體行業迎來黃金十年，從ASML看中國光刻領域該如何突圍？
半導體行業作為尖端技術及高附加價值產業，一直備受關注，是在整個國民經濟屮具有巨大戰略意義的關鍵性技術產業，因此世界各國政府都將其視為國家的骨幹產業。2019年7月22日，中國科創板一聲鑼響，首批25家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創、中微公司等多家半導體企業股價全線大漲，半導體板塊再度受到市場熱烈關注。中國半導體行業協會集成電路設計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導體產業正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉移，中國半導體產業即將迎來黃金髮展的十年，中國要抓住機遇積極發展發展半導體。
而半導體制造產業中，光刻機是核心設備，對芯片的工藝製程起著決定性作用。光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。據觀研天下的統計，半導體芯片在整個生產過程中需要20-30次的光刻，耗時佔到了生產環節的一半，成本能佔到三分之一。光刻不僅是影響代工廠的生產效率及成本，更主要的是光刻機的技術水平決定了芯片的製程工藝，所以半導體產業中光刻機佔據著極為重要地位。
全球光刻機設備市場佔有率高度集中，據芯思想研究院的統計，僅ASML一家就佔據了全球近七成的市場，ASML的技術水平代表了世界頂尖的技術水平。ASML僅用30年時間就在光刻機領域建立起極高的技術壁壘，據Bloomberg數據顯示，在45nm以下高端光刻機設備市場ASML佔據市場份額高達80%以上，在極紫外光(EUV)領域，ASML是獨家生產者，實現了全球獨家壟斷。2019年7月24日，ASML的股價創下234.5美元的歷史新高。
本文對ASML的發展歷程、運作模式、產品信息以及競爭格局進行深度分析，探究ASML如何在不具備先發優勢的情況下逐步佔據市場統治地位，找尋國內光刻機領域產業的投資機會。
02
統觀35年曆史，如何從小木棚走向全球光刻機領域霸主？
2.1. 市場定位：服務於芯片製造的曝光環節，以繼續摩爾定律為指導
芯片的製造包括沉積、光刻膠塗覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產中的關鍵工序，ASML正是處於半導體產業鏈中的曝光環節。ASML的系統本質上是投影系統，類似於幻燈片投影機，使用激光來佈置晶體管，相當於微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓片上，當未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由於光刻技術將微芯片上的結構製成圖形，因此，光刻技術在決定芯片上的特徵有多小以及芯片製造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。
據公司年報披露，上世紀70年代早期典型的芯片是1萬納米尺寸，而目前領先的芯片製造商可以生產出10納米尺寸的芯片，最先進的微芯片上的晶體管數量已經從幾千個增加到60多億個，英特爾聯合創始人戈登•摩爾在1965年首次發現了這一趨勢。摩爾表示，芯片製造商可以在保持相同成本的情況下，每2年將典型微處理器的晶體管數量增加一倍，並提高其性能，這一趨勢已經持續了50多年，被稱為摩爾定律。ASML將繼續以摩爾定律為指導，不斷向更高技術節點邁進。
2.2. 發展歷程：從PAS到EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代
ASML（阿斯麥）是一家專注於提供整體光刻解決方案的供應商，為其客戶提供工具——硬件、軟件和服務——來創建定義芯片上電子電路的模式。該公司成立於1984年，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），至今已成立35年。ASML以創新為生命線，不斷研發新產品，先後成功研製出雙工作臺、浸沒式TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT系列、新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE系列，目前已成為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，擁有23247名員工，辦公室遍佈全球16個國家60個城市，2018年光刻機出貨224臺，實現淨銷售額129.26億美元，實現淨利潤31.94億美元。
推出PAS 2500光刻機，建立起一定的名氣。1984年，飛利浦與芯片製造商ASMI合資成立了ASML，專門從事光刻機設備的開發。成立之初，ASML資金匱乏，但是ASML不斷堅持創新與實踐，成立當年推出了PAS2000步進式光刻機。公司迅速發展，得到飛利浦和ASMI的追加投資，1985年已擁有100多名員工，並搬到了新建的辦公室和工廠；1986年，公司採用新的對中技術推出PAS 2500步進式光刻機，開始在市場上建立起一定的名氣，同年與鏡片製造商Carl Zeiss建立合作伙伴關係；1988年隨著飛利浦在臺灣建立合資鑄造廠，ASML開始在亞洲市場開拓道路。
PAS5500光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991年，公司推出了PAS5500光刻機，擁有業界領先的生產力和分辨率，取得巨大成功，今天仍然有被使用，由此ASML開始走向成熟；1995，ASML在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML的發展奠定了物質基礎；並且ASML收購了飛利浦持有的股份，成為完全獨立的公司。
成功研製雙工作臺、浸沒式TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列，一舉奠定光刻機領域的霸主地位。2000年代是ASML騰飛的十年，2001年，ASML收購硅谷集團；同年，ASML推出了雙掃描系統，利用“雙級”技術，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產率最大化。2003年，ASML成功研製出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著2006年推出第一臺沉浸式批量生產光刻機TWINSCANXT：1700i；2007年又成功研發出第一臺193nm浸入式系統TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術的TWINSCANXT、TWINSCANNXT系列研製成功，奠定ASML在光刻機領域的霸主地位，尼康、佳能市場份額被急劇壓縮。兩年後的2009年，據Bloomberg數據顯示，ASML的營業額已達22.25億美元，已經佔據70%市場份額，成功登上光刻機領域的霸主之位。
邁向“整體光刻”時代，外延併購與整合助力新徵程。2007年，ASML收購了美國Brion公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為ASML整體光刻產品戰略的基石。2010年，推出第一臺極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），開啟光刻新時代，並且ASML成為EUV光刻機領域的獨家壟斷者，市佔率為100%。2013年，ASML收購了美國光源製造商Cymer，加速了下一代光刻技術的發展；2016年，ASML收購了臺灣領先的電子束測量工具HMI，進一步增強了整體光刻產品組合；2017年，ASML收購了德國卡爾蔡司SMT股份有限公司24.9%的間接股權，促進了EUV系統的進一步發展，同年TWINSCAN NXE:3400B機臺正式出貨；2019年，ASML收購了競爭對手Mapper公司的IP資產。通過一些列的收購與整合，ASML逐步走向整體光刻時代。
【以下為內容全文】
重點行業
科 “新”時代，優創先機
醫藥
申報科創板的醫藥公司超過25家，醫療器械公司領風騷——遠觀海外，近看A股，從估值、成長、科創屬性多角度“淘金”。
TMT
科創板即將上線，部分三板優質TMT公司或可迎來轉板機遇！TMT產業鏈佔據科創板半壁江山，我們獨創新股打分機制，梳理硬科技“真核”，估值+成長雙維度挑選真金！
教育
K12板塊依舊是重點，職業教育板塊值得關注，持續關注政策影響，深度研究超一線城市幼升小、小升初、高考升學路徑，挖掘背後的投資機遇！
【首席 · 諸海濱】
安信證券研究中心 •總經理助理
三板科創研究負責人
【團隊榮譽】
2016年-2018年賣方水晶球獎新三板公募/總榜第一名
2015年&2016連續新財富最佳新三板研究機構第一名
2016年&2017年金牛獎新三板研究第一名
原創聲明
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