我國的光刻機技術仍然處於低端水平，上海微電子的光刻機代表我國光刻機的最高水平，製程工藝為90nm，而ASML的光刻機已經進入5nm的製程工藝，我國的高端光刻機全部依靠進口。下文具體說一說。

    我國的光刻機技術仍然處於低端水平，上海微電子的光刻機代表我國光刻機的最高水平，製程工藝為90nm，而ASML的光刻機已經進入5nm的製程工藝，我國的高端光刻機全部依靠進口。下文具體說一說。

    光刻機的“技術壁壘”

    光刻機的技術門檻極高，可以說是集人類智慧大成的產物。

    ASML的光刻機超過90%的零件向外採購，整個設備採用了全世界上最先進的技術，是多個國家共同努力的結果，比如德國的光學設備和精密機械，美國的計量設備和光源設備。一臺7nm EUV光刻機包含了5萬多個零件，13個系統，需要把誤差分散到這個13個子系統中，所以每個配件必須得非常精準。

    最關鍵的是生產光刻機所需的關鍵零件，對我國是禁運的，所以制約了我國光刻機技術的發展。

    我國的光刻機技術仍然處於低端水平，上海微電子的光刻機代表我國光刻機的最高水平，製程工藝為90nm，而ASML的光刻機已經進入5nm的製程工藝，我國的高端光刻機全部依靠進口。下文具體說一說。

    光刻機的“技術壁壘”

    光刻機的技術門檻極高，可以說是集人類智慧大成的產物。

    ASML的光刻機超過90%的零件向外採購，整個設備採用了全世界上最先進的技術，是多個國家共同努力的結果，比如德國的光學設備和精密機械，美國的計量設備和光源設備。一臺7nm EUV光刻機包含了5萬多個零件，13個系統，需要把誤差分散到這個13個子系統中，所以每個配件必須得非常精準。

    最關鍵的是生產光刻機所需的關鍵零件，對我國是禁運的，所以制約了我國光刻機技術的發展。

    ASML的光刻機

    目前，全球光刻機領域的龍頭老大是荷蘭的ASML，佔領了80%的市場，日本的尼康和佳能已經被ASML完全擊敗。最先進的EUV光刻機，只有ASML能夠生產。大家所使用的的手機的處理器、電腦的CPU，大部分是ASML的光刻機制造出來的。

    ASML的7nm EUV光刻機已經非常成熟，華為的麒麟980處理器、蘋果的A12處理器、高通的驍龍855處理器均是有臺積電代工使用ASML的7nm 光刻機生產的。據說，ASML已經開始生產5nm製程的光刻機。

    我國的光刻機技術仍然處於低端水平，上海微電子的光刻機代表我國光刻機的最高水平，製程工藝為90nm，而ASML的光刻機已經進入5nm的製程工藝，我國的高端光刻機全部依靠進口。下文具體說一說。

    光刻機的“技術壁壘”

    光刻機的技術門檻極高，可以說是集人類智慧大成的產物。

    ASML的光刻機超過90%的零件向外採購，整個設備採用了全世界上最先進的技術，是多個國家共同努力的結果，比如德國的光學設備和精密機械，美國的計量設備和光源設備。一臺7nm EUV光刻機包含了5萬多個零件，13個系統，需要把誤差分散到這個13個子系統中，所以每個配件必須得非常精準。

    最關鍵的是生產光刻機所需的關鍵零件，對我國是禁運的，所以制約了我國光刻機技術的發展。

    ASML的光刻機

    目前，全球光刻機領域的龍頭老大是荷蘭的ASML，佔領了80%的市場，日本的尼康和佳能已經被ASML完全擊敗。最先進的EUV光刻機，只有ASML能夠生產。大家所使用的的手機的處理器、電腦的CPU，大部分是ASML的光刻機制造出來的。

    ASML的7nm EUV光刻機已經非常成熟，華為的麒麟980處理器、蘋果的A12處理器、高通的驍龍855處理器均是有臺積電代工使用ASML的7nm 光刻機生產的。據說，ASML已經開始生產5nm製程的光刻機。

    我國的光刻機

    我國光刻機領域的龍頭企業是上海微電子裝備有限公司（SMEE），可以穩定生產90nm製程工藝的光刻機，並且佔領了國內80%的光刻機市場，上海微電子正在研製65nm製程的光刻機。

    根據我國重大專項計劃提出，在2020年實現22nm製程的光刻機。

    我國的光刻機技術仍然處於低端水平，上海微電子的光刻機代表我國光刻機的最高水平，製程工藝為90nm，而ASML的光刻機已經進入5nm的製程工藝，我國的高端光刻機全部依靠進口。下文具體說一說。

    光刻機的“技術壁壘”

    光刻機的技術門檻極高，可以說是集人類智慧大成的產物。

    ASML的光刻機超過90%的零件向外採購，整個設備採用了全世界上最先進的技術，是多個國家共同努力的結果，比如德國的光學設備和精密機械，美國的計量設備和光源設備。一臺7nm EUV光刻機包含了5萬多個零件，13個系統，需要把誤差分散到這個13個子系統中，所以每個配件必須得非常精準。

    最關鍵的是生產光刻機所需的關鍵零件，對我國是禁運的，所以制約了我國光刻機技術的發展。

    ASML的光刻機

    目前，全球光刻機領域的龍頭老大是荷蘭的ASML，佔領了80%的市場，日本的尼康和佳能已經被ASML完全擊敗。最先進的EUV光刻機，只有ASML能夠生產。大家所使用的的手機的處理器、電腦的CPU，大部分是ASML的光刻機制造出來的。

    ASML的7nm EUV光刻機已經非常成熟，華為的麒麟980處理器、蘋果的A12處理器、高通的驍龍855處理器均是有臺積電代工使用ASML的7nm 光刻機生產的。據說，ASML已經開始生產5nm製程的光刻機。

    我國的光刻機

    我國光刻機領域的龍頭企業是上海微電子裝備有限公司（SMEE），可以穩定生產90nm製程工藝的光刻機，並且佔領了國內80%的光刻機市場，上海微電子正在研製65nm製程的光刻機。

    根據我國重大專項計劃提出，在2020年實現22nm製程的光刻機。

    總之，相比德國、日本、美國我國的芯片製造以及超精密的機械製造方面有一定的差距，同時國外對我國的“技術封鎖”，關鍵零件“禁運”相比ASML最新的EUV 7nm光刻機，我國的光刻機仍然有很大的差距。

我國光刻機和荷蘭差距巨大，現在荷蘭asml光刻機已經可以生產7nm的芯片，而我國的光刻機剛剛實現90nm的芯片光刻機功能，差距太大。至少差了五代的產品。

生產我國光刻機，代表光刻機生產最高水平的是上海微電子的前道光刻機，目前可以生產90nm芯片，而正在研發65nm的芯片設計，這樣的升級難度比從0到90nm低得多，所以預計很快就可以生產65nm和45nm的芯片了。

上海微電子的後道封裝光刻機已經在銷售和出口了，賣的還不錯，這個領域全球市場佔有率在40%，所以基礎的實力還是有的。

感謝您的閱讀！

我們看一張圖，就知道我們和世界領先的光刻機，差在哪裡了：

• 上海微電子，光刻機為90nm的ArF，使用波長193nm的激光成像技術。
• ASML這個目前代表世界最先進水平的企業，目前的光刻機是7nm EUV，使用波長為13.5納米的極紫外光（EUV）！

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我們看一張圖，就知道我們和世界領先的光刻機，差在哪裡了：

• 上海微電子，光刻機為90nm的ArF，使用波長193nm的激光成像技術。
• ASML這個目前代表世界最先進水平的企業，目前的光刻機是7nm EUV，使用波長為13.5納米的極紫外光（EUV）！

這種水平的差異是不是很無奈！可是，這是沒有辦法的事情，ASML它就是這麼強？它為什麼這麼厲害？！

• ASML的技術來自世界各地，它有美國的光柵，德國蔡司的鏡片等等技術的結合，可以說，ASML的光刻機包攬了世界最先進技術。
  

  感謝您的閱讀！

  我們看一張圖，就知道我們和世界領先的光刻機，差在哪裡了：

  • 上海微電子，光刻機為90nm的ArF，使用波長193nm的激光成像技術。
  • ASML這個目前代表世界最先進水平的企業，目前的光刻機是7nm EUV，使用波長為13.5納米的極紫外光（EUV）！
  

  這種水平的差異是不是很無奈！可是，這是沒有辦法的事情，ASML它就是這麼強？它為什麼這麼厲害？！

  • ASML的技術來自世界各地，它有美國的光柵，德國蔡司的鏡片等等技術的結合，可以說，ASML的光刻機包攬了世界最先進技術。
    
    
  • ASML本身就是從飛利浦獨立出來的公司，可以說人才濟濟，而且受到飛利浦的支持，
  • ASML的專利申請量眾多，甚至排在世界前列。
  • 作模式獨特，ASML規定，你想購買我的產品必須對我進行投資，這樣才能擁有對於ASML產品的優先提貨權！所以，ASML獲得了大量的資金支持，從合作伙伴那裡還可以獲得技術支持！三星，英特爾，臺積電，海力士等等都是它的股東！
    

  可是，我國在這方面卻受到了制約，不僅僅ASML不向我國出售光刻機，就算中芯訂購了一臺，可是“大火”似乎會讓這臺機器延期！更為主要的是：美國為首的國家制定的《瓦森納協定》，時刻對我們有影響！

  好消息是：經過近7年艱苦攻關，中國科學院光電技術研究所，使用365納米波長的光即可生產22nm的工藝的芯片，並且通過高深寬比刻蝕、多重曝光等工藝手段可以實現10nm以下的芯片生產。
  

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  • 上海微電子，光刻機為90nm的ArF，使用波長193nm的激光成像技術。
  • ASML這個目前代表世界最先進水平的企業，目前的光刻機是7nm EUV，使用波長為13.5納米的極紫外光（EUV）！
  

  這種水平的差異是不是很無奈！可是，這是沒有辦法的事情，ASML它就是這麼強？它為什麼這麼厲害？！

  • ASML的技術來自世界各地，它有美國的光柵，德國蔡司的鏡片等等技術的結合，可以說，ASML的光刻機包攬了世界最先進技術。
    
    
  • ASML本身就是從飛利浦獨立出來的公司，可以說人才濟濟，而且受到飛利浦的支持，
  • ASML的專利申請量眾多，甚至排在世界前列。
  • 作模式獨特，ASML規定，你想購買我的產品必須對我進行投資，這樣才能擁有對於ASML產品的優先提貨權！所以，ASML獲得了大量的資金支持，從合作伙伴那裡還可以獲得技術支持！三星，英特爾，臺積電，海力士等等都是它的股東！
    

  可是，我國在這方面卻受到了制約，不僅僅ASML不向我國出售光刻機，就算中芯訂購了一臺，可是“大火”似乎會讓這臺機器延期！更為主要的是：美國為首的國家制定的《瓦森納協定》，時刻對我們有影響！

  好消息是：經過近7年艱苦攻關，中國科學院光電技術研究所，使用365納米波長的光即可生產22nm的工藝的芯片，並且通過高深寬比刻蝕、多重曝光等工藝手段可以實現10nm以下的芯片生產。
  
  

  可以說這方面的成績，可以為未來打破ASML在光刻機的壟斷做準備，它不但使用了波長更長紫外光，而且成本更低，為未來我們芯片發展奠定了基礎！

光刻機又名：掩膜對準曝光機

主要是用來生產集成電路用的

目前世界上主要的光刻機廠商有ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海威微電子裝備、SUSS、ABM,lnc.

美國ABM光刻機

ABM光刻機公司成立於1986年，總部位於美國硅谷San Jose。主要經營光罩對準曝光機(光刻機)，單獨曝光系統，光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

截止到2010年3月，ABM公司在世界範圍售出了800多臺光刻機，50多臺單獨曝光系統。ABM光刻機在臺灣銷量第一，超過半數的大學、研究所和部分工廠使用ABM的光刻機。

ABM光刻機在中國銷售超過150臺，包括：國家重點實驗室、各領域研究所、知名大學和為數眾多的工廠，設備用於生產和研發，ABM光刻機願以其優越的性能和有競爭力的價格為中國半導體市場提供了優良的產品和良好的服務

光刻機又名：掩膜對準曝光機

主要是用來生產集成電路用的

目前世界上主要的光刻機廠商有ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海威微電子裝備、SUSS、ABM,lnc.

美國ABM光刻機

ABM光刻機公司成立於1986年，總部位於美國硅谷San Jose。主要經營光罩對準曝光機(光刻機)，單獨曝光系統，光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

截止到2010年3月，ABM公司在世界範圍售出了800多臺光刻機，50多臺單獨曝光系統。ABM光刻機在臺灣銷量第一，超過半數的大學、研究所和部分工廠使用ABM的光刻機。

ABM光刻機在中國銷售超過150臺，包括：國家重點實驗室、各領域研究所、知名大學和為數眾多的工廠，設備用於生產和研發，ABM光刻機願以其優越的性能和有競爭力的價格為中國半導體市場提供了優良的產品和良好的服務

ABM光刻機分多種型號主要機型為
ABM正面（單面）對準光刻機
ABM雙面（背面）對準光刻機、可見光紅外背後對準光刻機
ABM深紫外光刻機
ABM標準型LED光刻機
ABM全自動生產型光刻機
ABM大功率光刻機（500W，1000W，2000w）電源系統可選。
ABM半自動光刻機、全自動光刻機
ABM大尺寸光刻機（6英寸光源以上）

應用領域
電子封裝（晶片凸點和晶片級CSP）
光電設備（LED光刻機，激光二極管光刻，CMOS光刻，光柵光刻，波導陣列光刻）
探測器 （CCD，近/遠 紅外，實時X射線）
MEMS光刻機 和MOEMS 設備顯示器 （LCD光刻機，TFT-LCD光刻機，OLED光刻機）

中國光刻機

中科院光電所研製的設備，使用波長更長、更普通的紫外光，意味著國產光刻機使用低成本光源，實現了更高分辨力的光刻。

就技術來說，目前臺積電已經掌握了7nm工藝，並正在研發5nm工藝。而中芯國際還在苦苦提升28nm工藝的良率，距離突破14nm工藝還需要一些時間。

光刻機是什麼？

光刻機是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。光刻機可以分鐘兩種，分別是模板和圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼芯片；第二是類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。

曝光機在晶圓製作過程中，主要是利用紫外線通過模板去除晶圓表面的保護膜的設備。

一個晶圓可以製作出數十個集成電路，根據模版光刻機分為兩種：模版和晶圓大小一樣，模版不動。第二種是模版和集成電路大小一樣，模版隨光刻機聚焦部分移動。其中模版隨光刻機移動的方式，模版相對曝光機中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。目前，這種方式是主流方式。因此，光刻機對於集成電路的生產非常重要。

目前全球能夠製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎技術的廠家，全世界只有少數廠家掌握光刻機技術。例如ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM，Inc等。因此，光刻機的價格昂貴，通常在3千萬到5億美元。

中國目前做光刻機的主要有上海微電子裝備有限公司、中子科技集團公司第四十五研究所國電、合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技、無錫影速半導體科技。其中，上海微電子裝備有限公司已經量產的是90納米，這是在中國最領先的技術。其國家科技重大專項“極大規模集成電路製造裝備與成套工藝專項“的65nm光刻機研製，目前正在進行整機考核。

對於光刻機技術來說，90納米是一個技術臺階；45納米是一個技術臺階；22納米是一個技術臺階……90 納米的技術升級到65納米不難，但是45納米要比65納米難多了。

路要一步一步走，中國16個重大專項中的02專項提出光刻機到2020年出22納米的。目前主流的是45納米，而32納米和28納米的都需要深紫外光刻機上面改進升級。

用於光刻機的固態深紫外光源也在研發，我國的光刻機研發是並行研發的，22納米光刻機用到的技術也在研發，用在45納米的升級上面。

有種說法是，國外的高端光刻機對大陸禁售。目前，荷蘭的ASML則擁有全球晶圓廠光刻機設備高達8成的市場份額，在乾式曝光機、浸潤式光刻機，EUV（極紫外線光刻機）的市場幾乎處於獨霸地位，臺積電、三星、英特爾等國際半導體巨頭都是其客戶。但是，據傳聞，中國只能買到ASML的中低端機。

去年年底，有消息傳出，ASML中國區總裁金泳璇在接受媒體（DIGITIMES）採訪時正式澄清，ASML對大陸晶圓廠與國際客戶一視同仁，只要客戶下單，EUV要進口到中國完全沒有任何問題。在交期方面，所有客戶也都完全一致，從下單到正式交貨，均為21個月。

他還透露，目前已有大陸晶圓廠巨頭與ASML展開7納米工藝製程的EUV訂單洽談，2019年大陸首臺EUV可望落地。

至於消息能夠為真，還要看未來兩年中國晶圓市場的發展。

先來介紹什麼是光刻機。光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機。在生產芯片過程中，由於集成電路很細，就比如麒麟980芯片是7nm工藝的，就代表該芯片中電路寬度為7nm，並且電路數量動輒幾億甚至幾十億條，顯然不能用機械雕刻，這就需要用“光”來雕刻電路，這就是光刻機的用途。

為了達到目的，科學家在金屬上覆蓋上一層光刻膠，然後利用光刻機去照射，那些被光線照射到的光刻膠就消失了，然後再用化學物質腐蝕，那麼電路的形狀就出來了。可見，光刻機在芯片、電路板的生產過程中多麼重要。

正是因為光刻機的精度高、技術要求高，光刻機的價格一直居高不下，動輒幾千萬美元。更可氣的是最先進的光刻機美國不賣給中國，這也是為什麼國內芯片達不到高精度，連生產工具都掌握在別的國家手裡，生產出的芯片還能比得過別的國家嗎？

非常遺憾的是，現在國內的光刻機還處於起步階段，水平落後世界很多。目前國內能夠量產的光刻機只能夠光刻90nm的大規模集成電路，跟最先進7nm的設備差距可以說是極大的。

就在上週四新華社發文稱，國家重大科研裝備研製項目——“超分辨光刻裝備研製”在成都成功通過專家組驗收。報道稱該設備是世界上首臺用紫外光源實現了22納米分辨率的光刻機。筆者也有幸去了中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報道，還算熟悉，無法苟同一些漫無邊際的瞎扯。

中科院研發的這臺光刻機並不能用來CPU，只能用在一些技術要求較低的場景。在驗收會上有記者問：該光刻設備能不能打破國外芯片的壟斷？光電所專家回答說，光刻機用於芯片需要還攻克大量技術難題，目前距離還很遙遠。

從目前來看，中國是有能力研發光刻機的，也成功量產了許多。但是要和最先進的光刻機比，國內還相差甚遠。不過我們也不需要為之擔憂，在這方面中國本來起步就晚，現在比不過歐美國家也是正常的。都是相信在不久的將來，光刻機這一難題終將被攻克！

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①跟ASML對比，相差了好幾代的技術，5nm的；

②跟全球大多數的國家對比，我們已經勝了，因為我們有，雖然是90nm。

說實話，上網上多了，看ASML的新聞看多，還以為是全世界都有好像ASML這種頂級的光刻機企業。

但是，放眼全球，ASML就獨此一家了。其他國家也有光刻機的企業，但是也不怎麼先進了，甚至大部分的國家都沒有半導體行業的了。我們國家有半導體行業，已經算是不容易了。

當然，我們還是要正視問題，目前如果外國企業想要卡脖子的話，還是可以卡住我們的脖子。

目前的光刻機中，最先進的是ASML的光刻機已經進入5nm的製程工藝。這真的太厲害了，這是目前全球最頂尖的水平了。ASML也是好幾個國家一起砸錢燒出來的，以前很多企業一起攻克技術難關的，但是因為難度太高，費用太貴了，後來歐美幾個國家砸錢進來了才把ASML砸了出來。

上海微電子的光刻機制程工藝為90nm，採用的是前幾代的技術ArF的90nm，算是上世界的技術了。這個差距我們還是要承認的。

總結一下：那就是我們確實落後了別人超過20年的技術了，因為我們起步真的晚了。但是，起碼我們在努力著。

而且，我們國家的半導體行業還有一段很長的路，光刻機只是其中的一方面，甚至是是一個環境，很重要但不是全部。

就事論事講，（也許不恰當）如果ASML是姚明，國產光刻機就是土行孫他老婆剛懷孕！！！！永遠趕不上！！！！現在更應該做的，就是做好技術儲備，夯實基礎，等待光刻機技術革命（十年之內，摩爾定律到頭了）。不說彎道超車，能做到望其項背就不錯。。。。

目前的國產光刻機可以說還處於剛剛發芽的狀態，別人ASML已經在7nm製程上大展身手了，我們量產的設備也就90納米，剛剛研發出22nm的光刻機，差距也不是一般的大。